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    甩干機設備

    發布者:順平申德塑料機械廠    發布時間:2019-06-20
    甩干機設備
      硅片旋轉沖洗甩干機設備用于清洗太陽能硅片和半導體硅片,是濕法清洗工藝的主要設備,目前主要機型由四工位,六工位和八工位系列。主要工作過程為:噴淋旋轉沖洗+離心甩干+氮氣加熱烘干:
      【結構特點】
      1、整個甩干過程一般只需要5-6分鐘;
      2、設備的外露面為進口的PP板,外形美觀,耐酸氣腐蝕;
      3、工作腔,旋轉支架和裝片盒等主要部件采用耐腐蝕不銹鋼,并且表面電化學拋光處理;
      4、旋轉機構經過精密動平衡處理,保證工作時的平衡性;
      5、采用特種減震器,精密減震和阻尼,保證系統的穩定;
      6、采用潔凈化處理技術,閥門,接頭和管道采用不銹鋼,PEA高純管件和聚四氟;
      7、采用油壓缸自動開門關門,平穩安全可靠;
      8、采用油浴爐或氣體加熱器加熱氮氣,熱量足,溫度穩定,加熱溫度實時監控,并顯示在液晶屏上,并有雙重安全保護;
      9、特制噴頭和氣液流體控制系統,全自動切換;
      10、頂蓋采用電加熱板輔助加熱,保證頂蓋烘干后不滴水;
      11、工作腔采用靜電控制。
      【電氣控制】
      1、采用PLC可編程控制器和觸屏控制,整個過程智能化;
      2、程序設計可靠,速度調節,溫度調節和時間調節等都可以在觸摸屏上設定,修改和保存;
      3、采用變頻技術控制轉速,加減速平穩,清潔和甩干速度按工藝要求設定,并實時顯示在液晶屏上;
      4、采用電子制動,制動時間控制在15秒內;
      5、控制軟件具有故障實時顯示和報警功能;
      6、采用了工作過程狀態監控,門位置狀態監控與互鎖,氮氣加熱溫度實時監控,緊急停止按鈕等安全措施。


    【技術參數】


    型號

    半導體行業

    太陽能行業

    FJ455

    FJ655

    FJ855

    工作腔數量

    4

    6

    8

    硅片規格

    2.5“、3”、4“、5”、6“

    125,156

    125,156

    旋轉速度

    0-1000

    0-900

    0-900

    氮氣壓力

    0.3

    去離子水壓力

    0.3

    電阻率監控

    可選

    可選

    氮氣密封

    空/氮氣烘干

    氮氣加熱方式

    熱傳導

    熱傳導

    油浴爐溫度

    30-120℃ PID控溫

    30-120℃ PID控溫

    輔助加熱系統

    腔體電化拋光

    電機驅動

    變速調頻

    變速調頻

    控制系統

    PLC可編程控制器

    控制顯示器

    液晶觸摸屏

    外形尺寸(長*寬*高)

    1040*1100*900

    1250*1300*980

    1250*1300*980

    電源功率

    5

    6

    6

    電壓/頻率

    AC380 50HZ (三相四線)


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